阻垢剂

反渗透阻垢剂没有国家标准；但阻垢剂的选用对膜的使用效果和使用寿命都非常关键，所以各大膜厂家技术手册上都有推荐的品牌型号。美国KOHL药剂RUN100是目前在国内使用的阻垢剂型号当中唯一被陶氏、海德能等各大膜厂家技术手册上所推荐的品牌型号。传统使用的阻垢及一般分为含磷小分子阻垢剂或有机物高分子直链型聚合物阻垢剂，阻止或干扰难溶无机盐的沉积、结垢，大多数阻垢剂均是来源于冷却循环水方面的阻垢经验，其所含有的磷成份作为细菌微生物的营养源对膜带来生物污染的危险。本标准规定了JC-A10反渗透阻垢剂的适用范围、技术要求、试验方法、检验规则等条件。本标准适用于含膦小分子有机物为主要成份的反渗透膜阻垢/分散剂。JC-A10产品是液体阻垢/分散剂，用于控制膜分离系统中硅垢、碳酸盐、硫酸盐及氧化铁沉淀造成的结垢，广泛用于超滤、纳滤、反渗透等膜系统中。传统的阻垢剂均为晶体修改型阻垢剂，原理为让水中的过饱和离子形成初期沉淀晶体后，再通过修改晶体上面的极性键基团来防止晶体长大或附着于膜表面。

反渗透阻垢剂没有国家标准；但阻垢剂的选用对膜的使用效果和使用寿命都非常关键，所以各大膜厂家技术手册上都有推荐的品牌型号。美国KOHL药剂RUN100是目前在国内使用的阻垢剂型号当中唯一被陶氏、海德能等各大膜厂家技术手册上所推荐的品牌型号。传统使用的阻垢及一般分为含磷小分子阻垢剂或有机物高分子直链型聚合物阻垢剂，阻止或干扰难溶无机盐的沉积、结垢，大多数阻垢剂均是来源于冷却循环水方面的阻垢经验，其所含有的磷成份作为细菌微生物的营养源对膜带来生物污染的危险。本标准规定了JC-A10反渗透阻垢剂的适用范围、技术要求、试验方法、检验规则等条件。本标准适用于含膦小分子有机物为主要成份的反渗透膜阻垢/分散剂。JC-A10产品是液体阻垢/分散剂，用于控制膜分离系统中硅垢、碳酸盐、硫酸盐及氧化铁沉淀造成的结垢，广泛用于超滤、纳滤、反渗透等膜系统中。传统的阻垢剂均为晶体修改型阻垢剂，原理为让水中的过饱和离子形成初期沉淀晶体后，再通过修改晶体上面的极性键基团来防止晶体长大或附着于膜表面。

反渗透阻垢剂没有国家标准；但阻垢剂的选用对膜的使用效果和使用寿命都非常关键，所以各大膜厂家技术手册上都有推荐的品牌型号。美国KOHL药剂RUN100是目前在国内使用的阻垢剂型号当中唯一被陶氏、海德能等各大膜厂家技术手册上所推荐的品牌型号。传统使用的阻垢及一般分为含磷小分子阻垢剂或有机物高分子直链型聚合物阻垢剂，阻止或干扰难溶无机盐的沉积、结垢，大多数阻垢剂均是来源于冷却循环水方面的阻垢经验，其所含有的磷成份作为细菌微生物的营养源对膜带来生物污染的危险。本标准规定了JC-A10反渗透阻垢剂的适用范围、技术要求、试验方法、检验规则等条件。本标准适用于含膦小分子有机物为主要成份的反渗透膜阻垢/分散剂。JC-A10产品是液体阻垢/分散剂，用于控制膜分离系统中硅垢、碳酸盐、硫酸盐及氧化铁沉淀造成的结垢，广泛用于超滤、纳滤、反渗透等膜系统中。传统的阻垢剂均为晶体修改型阻垢剂，原理为让水中的过饱和离子形成初期沉淀晶体后，再通过修改晶体上面的极性键基团来防止晶体长大或附着于膜表面。

都要用，缓蚀阻垢剂常用，杀菌灭藻剂一般15天一次，清洗剂要看清洗什么了，润滑油量也不小，但都要视情况而定。

一般是阻垢剂，工业制纯水现在大多选用反渗透设备，所以加阻垢剂的可能性最大。

故障诊断一览表（表-1）对于判断污染物的性质非常有用。 表-1 膜系统故障诊断一览表污染种类 可能污染位置 压降 进水压力 脱盐率下降 金属氧化物污染（Fe，Mn，Cu，Ni，Zn） 一段，最前端膜元件 迅速增加 迅速增加 迅速增加 胶体污染（有机和无机混合物） 一段，最前端膜元件 逐渐增加 逐渐增加 轻度增加 矿物垢(Ca，Mg，Ba，Sr) 末段，最末端膜元件 适度增加 轻度增加 一般增加 聚合硅沉积物 末段，最末端膜元件 一般增加 增加 一般增加 生物污染 任何位置，通常前端膜元件 明显增加 明显增加 一般增加 有机物污染（难溶NOM） 所有段 逐渐增加 增加 降低 阻垢剂污染 二段最严重 一般增加 增加 一般增加 氧化损坏(Cl2，Ozone，KMnO4) 一段最严重 一般增加 降低 增加 水解损坏（超出pH范围） 所有段 一般降低 降低 增加 磨蚀损坏（碳粉等） 一段最严重 一般降低 降低 增加 O型圈渗漏 （内连接管或适配器） 无规则 （通常在给水适配器处） 一般降低 一般降低 增加 胶圈渗漏（由于产水背压造成） 一段最严重 一般降低 一般降低 增加 胶圈渗漏 （在清洗或冲洗时由关闭产水阀而造成） 最末端元件 增加 （污染初期和压差升高） 增加 （污染初期和压差升高） 增加